O que significa pulverização de magnetron?
A pulverização catódica magnética é uma técnica de revestimento por deposição de vapor físico usada para depositar películas finas de materiais, como metais, plásticos e cerâmicas, em outras superfícies ou substratos.
O processo é realizado em um ambiente de vácuo ou baixa pressão, onde um campo magnético é usado para concentrar íons de alta energia no material de revestimento para ejetar os átomos. A pulverização catódica é amplamente utilizada em aplicações científicas e comerciais, como melhorar as propriedades de resistência à corrosão de ligas de aço e magnésio.
Industriapedia explica a pulverização catódica do magnetron
A pulverização catódica magnética é um processo de revestimento poderoso, flexível e independente do material que pode ser usado para revestir a maioria das superfícies comuns com uma variedade de materiais. Os átomos de alta energia podem penetrar no substrato para criar padrões uniformes e firmes que melhoram a durabilidade e o desempenho da superfície.
A técnica é amplamente utilizada em indústrias comerciais, industriais, científicas e de pesquisa. Revestimentos típicos incluem:
- Revestimentos resistentes ao desgaste
- Revestimentos de baixa fricção
- Revestimentos decorativos
- Revestimentos resistentes à corrosão
- Revestimentos com propriedades ópticas ou elétricas específicas
- revestimentos médicos
- Outros revestimentos funcionais
Aplicações típicas incluem:
- Displays
- Ferramentas
- vidro arquitetônico
- Materiais fotovoltaicos
- Materiais supercondutores
- Ligas de magnésio para as indústrias automotiva e aeroespacial
A energia elétrica é usada para criar íons de plasma de alta energia no vácuo. Um magnetron fornece um campo magnético que concentra os íons no alvo (cátodo). À medida que os íons atingem o alvo, átomos neutros, moléculas e elétrons secundários são emitidos (sputtering). Os átomos ejetados se movem em direção ao substrato onde se condensam para formar uma película fina do material de revestimento. Os elétrons secundários colidem com o gás inerte na câmara e ajudam a manter o plasma.
O plasma, no método convencional de pulverização catódica com magnetron, é concentrado acima do alvo e pode fazer com que os íons bombardeiem e afetem o filme correspondente no substrato. Isso é eliminado no método de pulverização catódica de magnetron desbalanceado, onde o campo magnético é organizado de forma a espalhar o plasma. Isso ajuda a manter uma baixa concentração de íons perto do substrato.